清溢光电发行价格为8.78元/股，清溢光电发行人技术水平及特点

　　清溢光电申购在11月11日进行，其申购代码为787138，发行价格为8.78元/股。大家可以关注一下该股的申购信息，给大家介绍一下发行人技术水平及特点.。

　　发行人生产制造的核心工序包括光刻、清洗、显影、蚀刻、检查、修补、贴膜等环节，其技术水平主要体现在:图形设计处理、光刻工序工艺、显影蚀刻工序工艺、测量和检查分析技术、缺陷控制与修补、洁净室建设等方面，发行人均位于国内领先水平。.

　　(1) CAM图形处理技术

　　发行人自主开发LCD自动转换软件，解决了文字转换、多义线转换、多义.线聚合、自动分层、短路/断路检查等难题。发行人还引进了各类专业的图形处理软件，并根据掩膜版行业特性，自主开发，定制化实现客户产品参数的自动检查、处理及优化,极大的提高了图形设计效率与质量。.经过多年自编程和二次开发，发行人已经全面掌握掩膜版的图形处理技术及要求，提高了生产效率，降低人工识别误差。

　　(2)光刻技术

　　光刻工序是决定掩膜版质量的最重要的环节,光刻机是光刻技术的集中载体。经过20余年的发展，发行人在日常生产使用过程中持续增进对光刻机使用的理解，不断进行工艺优化和适配，掌握了众多提高光刻工序稳定性的专有技术，特别是精细图形bias 补正、斜线补正、MURA控制、PPO、坐标变形控制、平整度补偿、二次对位、精密坐标校正等。发行人将这些技术成功运用在3.5-5.5 代Touch Panel 大尺寸掩膜版、5-8.5 代a-Si TFT LCD用掩膜版、4.5-6代AMOLED/LTPS用掩膜版的等各种产品制造技术上,并能够根据不同客户的订单需求进行定制化配置。经过多年技术沉淀,发行人还是目前全球范围内少有的能够使用海德堡光刻

　　机量产4.5-8.5代TFT CF和Array用掩膜版厂商。

　　(3)显影蚀刻技术

　　CD精度是掩膜版图形中特征线条制作宽度与设计值的偏差，显影/蚀刻技术能力主要体现在CD精度控制水平,是掩膜版厂家的核心技术之一- 。经多年开发，发行人已经完全掌握显影/蚀刻的工艺特点和技术原理，并摸索出工艺参数和调试公式。

　　发行人掌握了显影蚀刻的关键技术，包括基于光刻环节和显影蚀刻环节对CD精度的控制。经测试和验证发行人CD控制精度在800X 960mm面积范围内已达到80nm控制水准，各项指标已等同或接近于国际先进水平。

　　(4)CD测技术:

　　CD (Critical Dimension)测量是指掩膜版生产过程中对设计图纸的特征尺寸进行测量，发行人主营业务的平板显示用CD测量精度要求重复性和再现性均小于10nm。

　　发行人针对掩膜版生产技术特点,自行开发成功的6代和8代微细图形尺寸测量机两台(套)(CD测量机)，经评测和验证，两套设备测量精度要求重复性和再现性均小于10nm， 满足生产技术要求，该项设备的机械、电器、光学、软件以及测量算法等关键技术均为发行人自有技术。

　　(5) TP测量技术

　　当前全球掩膜版最好的TP测量设备是瑞典Mycronic公司生产的MMS系列设备。发行人自引进该设备后，已经成功消化吸收并熟练掌握这门技术。发行人能够定期校正并保证MMS作为整个公司二维坐标的测量基准，所有其他光刻机的二维坐标都能够匹配到这台机器,保证了发行人的两台高精度光刻机的将位置和套合精度提升控制到300nm以下。