国林科技：臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化…
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作者：佚名
摘要： 消息，国林科技(300786)06月14日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。投资者：公司的产品在芯片领域的产品主要竞争对手都有哪些？国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。
消息，国林科技(300786)06月14日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。
投资者：公司的产品在芯片领域的产品主要竞争对手都有哪些？
国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程。感谢您的关注。
投资者：青岛3万吨高品质乙酫酸基地是作为新疆晶体乙酫酸的稀释基地还是另外新建产能？
国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。该基地初步筹划用于新疆晶体乙醛酸水解 ，目前尚处于筹备阶段，项目推进过程中将根据政策要求及公司发展战略进行适时调整和优化，相关信息请以公司公告为准。感谢您的关注。
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