国外光刻胶巨头产能受限国产替代加速！龙头已三连板 还有哪些好标的？

　　今日早盘开盘后，彤程新材（603650）延续强势走势，早盘稍有震荡后直线，拉板，至今走出三连板。自5月24日起涨幅已近50%。

　　国外光刻胶巨头产能受限，供需紧张

　　由于地震原因，全球五大光刻胶生产企业信越化学KrF光刻胶福岛工厂关闭，产能受限，限制对华出口光刻胶。同时由于全球晶圆厂新增产能较多，对光刻胶需求高涨，光刻胶供应持续紧张。预计到2024年，全球会新增22座8英寸晶圆厂，预计月产能将达到660万片。从国内市场看，中国大陆晶圆厂建设也迎来高速增长期，未来五年在中国大陆新建至少29座晶圆厂。

　　光刻胶行业具有极高技术壁垒，呈现寡头垄断格局

　　光刻胶行业具有极高的行业壁垒，因此呈现寡头垄断的局面，长年被日本和美国专业公司所垄断。目前前五大厂商占据了全球光刻胶市场87%的份额，行业集中度极高。国内半导体光刻胶同国外先进技术差距较大，国外已经可以量产第五代极紫外光刻机用光刻胶，而我国在这一领域尚处在实验室阶段，最新的12英寸晶圆所用的ArF光刻胶在我国还处在研发阶段，8英寸晶圆所用KrF光刻胶国产化率仅为1%。

　　国内光刻胶行业正在加速追赶

　　由于国外对我国封锁高端光刻胶生产工艺技术，我国光刻胶自给率非常低，半导体光刻胶国产化率仅为个位数。高端光刻胶为国外巨头所垄断的行情时刻对我国芯片制造形成威胁。由于光刻胶保质期较短(6-9个月)，一旦发生突发事件，我国芯片制造即会受到威胁，因此国产化势在必行。

　　光刻胶大爆发，谁能在国产替代中拔得头筹？

　　彤程新材参股子公司北京科华是唯一被SEMI列入全球光刻胶八强的中国光刻胶公司。同时投资5.7亿元在上海建设年产1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶预计于2021年末建成投产。现在北京科华可实现i线光刻胶500吨/年、KrF光刻胶产能10吨/年，其参与的国家科技重大专项极紫外(EUV)光刻胶项目已通过验收；

　　【晶瑞股份(300655)、股吧】（300655）子公司苏州瑞红拥有达到国际先进水平的光刻胶工厂，是国内最早规模化生产光刻胶的企业之一，承担国家02专项项目，产品已经向中芯国际、扬杰科技（300373）等公司供货。目前拥有i线光刻胶100吨/年，KrF光刻胶进入中试阶段；

　　南大光电（300346）目前已经建成年产25吨193nm(ArF)光刻胶，其研发团队阵容强大，均为国内半导体光刻胶一线人员。

　　【上海新阳(300236)、股吧】（300236）是承担国家“02专项”193nm光刻胶项目公司之一，公司是目前国内唯一可以生产12寸大硅片企业，目前已经取得的台积电供货商资质。

　　容大感光（300576）十年前开始光刻胶的研发与产业化，目前光刻胶产品涵盖的主要领域为平板显示、发光二极管、半导体芯片等。

　　彤程新材与南大光电无疑走在了光刻胶本土化道路的前列

　　彤程新材：

　　首创证券研报认为，彤程新材是国内唯一可以批量供应KrF光刻胶给本土8寸和12寸的晶圆厂客户的公司。由于地震原因，全球八大光刻胶生产企业信越化学KrF光刻胶福岛工厂关闭，产能受限，限制对华出口光刻胶。同时由于全球晶圆厂新增产能较多，对光刻胶需求高涨，光刻胶供应持续紧张。由于光刻胶行业具有极高的行业壁垒，因此呈现寡头垄断的局面，长年被日本和美国专业公司所垄断。

　　目前前五大厂商占据了全球光刻胶市场87%的份额，行业集中度极高。北京科华是唯一被SEMI列入全球光刻胶八强的中国光刻胶公司，目前彤程新材全资子公司彤程电子直接持有北京科华42.26%股权，同MengTehcnologyInc.为一致行动人，合计持有北京科华56.23%股权，为第一大股东。

　　公司日前发布公告，子公司彤程电子投资5.7亿元在上海建设年产1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目，预计于2021年末建成投产。目前北京科华共有g/i线光刻胶产能500吨/年，KrF光刻胶10吨/年，同时国内仅有北京科华在EUV光刻胶处于早期研究阶段。

　　南大光电：

　　【国联证券(601456)、股吧】（601456）研报中认为，半导体光刻胶目前国内自给率极低，供给端基本被日美企业垄断，行业前五市占率达87%。其中g线/i线光刻胶自给率约为20%，KrF光刻胶自给率不足5%，而ArF光刻胶完全依赖进口，对我国芯片制造形成“卡脖子”风险。

　　5月31日，南大光电公告称公司控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶产品继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后，近日又在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破。认证评估结果显示，本次认证系选择客户55nm技术节点逻辑芯片产品的工艺进行验证，宁波南大光电研发的ArF光刻胶的测试良率结果符合要求，表明其具备55nm平台后段金属布线层的工艺要求。

　　南大光电继去年12月通过50nm闪存平台认证通过后，近日又再次获得55nm逻辑电路平台认证，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，打破了国内先进光刻胶受制于人的局面。公司目前已完成两条光刻胶生产线的建设，预计未来光刻胶年产能达25吨(干式5吨和浸没式20吨)。