奥普光电:Caf2光学晶体可根据实际需求进行二次开发用于光刻机的光学系统中
摘要: 奥普光电(002338)7月3日在互动平台回答投资者提问时表示,公司生产的Caf2光学晶体应用范围较广,客户可根据实际需求进行二次开发,产品可以用于光刻机的光学系统中。
奥普光电(002338)7月3日在互动平台回答投资者提问时表示,公司生产的Caf2光学晶体应用范围较广,客户可根据实际需求进行二次开发,产品可以用于光刻机的光学系统中。
二次开发
摘要: 奥普光电(002338)7月3日在互动平台回答投资者提问时表示,公司生产的Caf2光学晶体应用范围较广,客户可根据实际需求进行二次开发,产品可以用于光刻机的光学系统中。
奥普光电(002338)7月3日在互动平台回答投资者提问时表示,公司生产的Caf2光学晶体应用范围较广,客户可根据实际需求进行二次开发,产品可以用于光刻机的光学系统中。
二次开发
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